化学液相淀积法制备氧化铝薄膜摘要无机氧化物薄膜在现代微电子学、 固体电子学和光学工程中有广泛的应用。 氧化物薄膜的制备已经成为凝聚态物理学的一个研究热点。 传统制各氧化物薄膜的方法包括热氧化、 化学汽相淀积、 金属有机物化学汽相淀积、 溶胶凝胶法等等。 但是， 这些方法大多要求非常复杂的实验设备， 而且不容易操作。 一种新的制备氧化物薄膜的方法一化学液相淀积（ Ｃ Ｌ Ｄ ）于１９８８年被Ｎ ａｇａｙａｍ ａ等人首次提出。 它可以在更为简单的实验条件下制备氧化物薄膜， 因此引起了人们的极大兴趣。 但是， 在全球范围内， 化学液相淀积氧化铝薄膜尚未被研究过。 在本文中， 我们...

　　化学液相淀积法制备氧化铝薄膜摘要无机氧化物薄膜在现代微电子学、 固体电子学和光学工程中有广泛的应用。 氧化物薄膜的制备已经成为凝聚态物理学的一个研究热点。 传统制各氧化物薄膜的方法包括热氧化、 化学汽相淀积、 金属有机物化学汽相淀积、 溶胶凝胶法等等。 但是， 这些方法大多要求非常复杂的实验设备， 而且不容易操作。 一种新的制备氧化物薄膜的方法一化学液相淀积（ Ｃ Ｌ Ｄ ）于１９８８年被Ｎ ａｇａｙａｍ ａ等人首次提出。 它可以在更为简单的实验条件下制备氧化物薄膜， 因此引起了人们的极大兴趣。 但是， 在全球范围内， 化学液相淀积氧化铝薄膜尚未被研究过。 在本文中， 我们将报导制备氧化铝薄膜的Ｃ Ｌ Ｄ新方法。 首先， 我们先仔细研究了化学液相淀积氧化硅薄膜的过程（ 主要是参考Ｈ ｏ ｕ ｎ ｇ 等人的工作）。 然后， 通过一套包括浸在水浴装置中的聚四氟乙烯生长室的实验装置系统， 我们完成了化学液相淀积氧化铝薄膜的实验过程。 制备生长液所用的化学试剂包括Ａ １， （ Ｓ ０ ４ ）， － １８ Ｈ ２０ 、 Ｎ ａ Ｈ Ｃ Ｏ 。 和去离子水。 这是一个无机盐水解和高温退火的过程。 薄膜的质量用Ａ Ｆ Ｍ 、 Ａ Ｅ Ｓ 、 Ｅ Ｄ Ｓ 、 Ｘ Ｒ Ｄ 、 Ｆ Ｔ ＩＲ 等实验手段进行表征， 结果显示制得的三氧化二铝薄膜表面均匀而平整，化学组份纯正（ 不含氢元素）， 而且属于高硬度的晶态超薄膜。关键词： 三氧化二铝薄膜， 化学液相淀积（ ｃＬ Ｄ ）， 水解过程。